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Volumn 9, Issue 4, 2000, Pages 309-312

Microstructure of SiOx:H films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition

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EID: 0034165576     PISSN: 10091963     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1088/1009-1963/9/4/011     Document Type: Article
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References (12)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.