Reflective microdisplay using anti-ferroelectric liquid crystals

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers

Volumn 39, Issue 3 A, 2000, Pages 1165-1169

  Lu, Minhua ^a   Yang, K H ^a   Sanford, J L ^a  

^a IBM T J WATSON RESEARCH CENTER   (United States)

Author keywords

AFLC; Reflective LCD; Si based display; TL AFLC

Indexed keywords

CAPACITORS; ELECTRIC POTENTIAL; LIGHT EMITTING DIODES; THIN FILM TRANSISTORS;

ANTIFERROELECTRIC LIQUID CRYSTALS; REFLECTIVE MICRODISPLAY;

LIQUID CRYSTAL DISPLAYS;

EID: 0033750951     PISSN: 00214922     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/jjap.39.1165     Document Type: Article

References (31)

1. W. J. A. M. Hartmann: IEEE Trans. Electron Devices 36 (1989) 1895.
2. W. J. A. M. Hartmann: J. Appl. Phys. 66 (1989) 1132.
3. W. J. A. M. Hartmann: Ferroelectrics 122 (1991) 1.
4. K. Nito, T. Fujioka, N. Kataoka and A. Yasuda: Proc. AM-LCD'94 (1994) p. 48.
5. K. Nito, E. Matsui, M. Miyashita, S. Arakawa and A. Yasuda: J. SID 1 (1993) 163.
6. T. Takashushi, H. Furue, M. Shikada, N. Matsuda, T. Miyama and S. Kobayashi: SID'99 Dig. (1999) p. 858.
7. J. S. Patel: Appl. Phys. Lett. 60 (1992) 280.
8. V. Pertuis and J. S. Patel: Ferroelectrics 149 (1993) 193.
9. L. A. Beresnev, V. G. Chigrinov, D. I. Dergachev, E. P. Poshidaev, J. Funfshilling and M. Schadt: Liq. Cryst. 5 (1989) 1171.
10. J. Funfshilling and M. Schadt: SID'96 Dig. (1996) p. 691.
11. J. Funfshilling and M. Schadt: J. Appl. Phys. 66 (1989) 3877.
12. A. G. H. Verhulst and G. Cnossen: Proc. IDRC'94 (1994) p. 377.
13. J. Funfshilling and M. Schadt: Jpn. J. Appl. Phys. 33 (1994) 4950.
14. A. G. H. Verhulst, G, Cnossen, J. Funfshilling and M. Schadt: J. SID 3 (1995) 133.
15. J. Funfshilling and M. Schadt: Ferroelectrics 179 (1996) 141.
16. J. Funfshilling and M. Schadt: Jpn. J. Appl. Phys. 35 (1996) 5765.
17. T. Verhulst: Jpn. J. Appl. Phys. 36 (1997) 720.
18. G. Cnossen: SID'96 Dig. (1996) p. 695.
19. S. Inui, N. Iimura, T. Suzuki, H. Wane, K. Miyachi, Y. Takanishi and A. Fukuda: J. Mater. Chem. 6 (1996) 671.
20. A. Fukuda: Proc. Asia Display '95 (1995) p. 61.
21. S. S. Seomun, T. Takanishi, K. Ishikawa, H. Takezoe and A. Fukuda: Jpn. J. Appl. Phys. 36 (1997) 3586.
22. S. S. Seomun, T. Gouda, T. Takanishi, K. Ishikawa, H. Takezoe, A. Fukuda, C. Tanaka, T. Fujiyama, T. Maruyama and S. Nishiyama: Proc. IDW/AM-LCD'96 (1996) p. 61.
23. K. Takatoh, H. Nagata and T. Saishu: Ferroelectrics 179 (1996) 173.
24. T. Saishu, K. Takatoh, R. Iida, H. Nagata and Y. Mori: SID'96 Dig. (1996) p. 703.
25. T. Yoshida, T. Tanaka, J. Ogura, H. Wakai and H. Aoki: SID'97 Dig. (1997) p. 841.
26. Ray Hasegawa, H. Fujiwara, H. Nagata, T. Saishu, R. Iida, Y. Hara, M. Akiyama, H. Okumura and K. Takatoh: AM-LCD 97 (Tokyo, Japan) Dig. Tech. Pap. p. 119.
27. H. Takazoe, A. D. L. Chandani, S. Seomun, B. Park, D. S. Hermann, Y. Takanishi and K. Ishikawa: Asia Display'98, Workshop Dig. Tech. Pap. p. 23.
28. P. Rudquist, J. P. F. Lagerwall, M. Buivydas, F. Gouda, S. T. Lagerwall, R. F. Shao, D. Coleman, S. Bardon, D. R. Link, T. Bellini, J. E. Maclennan, D. M. Walba, N. A. Clark and X. H. Chen: SID'99 Dig. (1999) p. 409.
29. B. Park, M. Nakata, T. Ogasawara, Y. Takanishi, K. Ishikawa and H. Takezoe: SID'99 Dig. (1999) 404.
30. B. Park, S. Seomun, M. Nakata, M. Takahashi, Y. Takanishi, K. Ishikawa and H. Takezoe: Jpn. J. Appl. Phys. 38 (1999) 1474.
31. J. L. Sanford, P. F. Greier, K. H. Yang, M. Lu, R. S. Olyha, Jr., C. Narayan, J. A. Hoffnagle, P. M. Alt and R. L. Melcher: IBM J. Res. Dev. 42 (1998) 411.