Effect of hole trapping on the microscopic structure of oxygen vacancy sites in a-SiO2

Journal of Physical Chemistry A

Volumn 104, Issue 20, 2000, Pages 4699-4703

  Pineda, Andrew C ^a   Karna, Shashi P ^b  

^a UNIVERSITY OF NEW MEXICO   (United States)

^b AIR FORCE RESEARCH LABORATORY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AMORPHOUS SILICON; CHEMICAL BONDS; DIMERS; HOLE TRAPS; MOLECULAR STRUCTURE; POLARIZATION; RELAXATION PROCESSES;

HARTREE-FOCK CALCULATIONS; OXYGEN VACANCY SITES;

SILICA;

EID: 0033739393     PISSN: 10895639     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp994160c     Document Type: Article

References (17)

1. Fleetwood, D. M.; Riewe, L. C.; Schwank, J. R.; Witzak, S. C.; Schrimpf, R. D. IEEE Trans. Nucl. Soc. 1996, 43, 2537.
2. Fleetwood, D. M.; Winokur, P. S.; Riewe, L. C.; Reber, R. A., Jr. J. Appl. Phys. 1998, 84, 6141.
3. Feigl, F. J.; Fowler, W. B.; Yip, K. L. Solid State Commun. 1974, 14, 225.
4. Rudra, J. K.; Fowler, W. B. Phys. Rev. B 1987, 35, 8223.
5. Boero, M.; Pasquarello, A.; Sarnthein, J.; Car, R. Phys. Rev. Lett. 1997, 78, 887.
6. Griscom, D. L.; Frieble, E. J. Phys. Rev. B 1986, 34, 7524.
7. Tohmon, R.; Shimogaichi, Y.; Tsuta, Y.; Munekuni, S.; Ohki, Y.; Hama, Y.; Nagasawa, K. Phys. Rev. B. 1990, 41, 7258.
8. Vanheusden, K.; Stesmans, A. J. Appl. Phys. 1993, 74, 275.
9. Zhang, L.; Leisure, R. G. J. Appl. Phys. 1996, 80, 3744.
10. Conoley, J. F. Jr.; Lenahan, P. M. IEEE Trans. Nucl. Sci. 1995, 42, 1740.
11. Chavez, J. R.; Karna, S. P.; Vanheusden, K.; Brothers, C. P.; Pugh, R. D.; Singaraju, B. K.; Devine, R. A. B. IEEE Trans. Nucl. Sci. 1997, 44, 1799.
12. Karna, S. P.; Pineda, A. C.; Shedd, W. M.; Singaraju, B. K. In Silicon-on-Insulator Technology and Devices IX (Proceedings Volume 99-3); Hemment, P. L. F., Ed.; The Electrochemical Society: Pennington, NJ, 1999; p 161.
13. Warren, W. L.; Lenahan, P. M.; Robinson, B.; Stathis, J. H. Appl. Phys. Lett. 1988, 53, 482.
14. Zvanut, M. E.; Feigl, F. J.; Fowler, W. B.; Rudra, J. K.; Caplan, P. J.; Poindexter, E. H.; Zook, J. D. Appl. Phys. Lett. 1989, 54, 2118.
15. Warren, W. L.; Lenahan, P. M. J. Appl. Phys. 1989, 66, 5488.
16. Schmidt, M. W.; Baldridge, K. K.; Boatz, J. A.; Elbert, S. T.; Gordon, M. S.; Jensen, J. H.; Koseki, S.; Matsunaga, N.; Nguyen, K. A.; Su, S. J.; Windus, T. L.; Dupuis, M.; Montgomery, J. A. J. Comput. Chem. 1993, 14, 1347.
17. Snyder, K. C.; Fowler, W. B. Phys Rev. B 1993, 48, 13238.