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Volumn , Issue , 2000, Pages 112-113

Ultra low energy arsenic implant limits on sheet resistance and junction depth

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ARSENIC; DIFFUSION IN SOLIDS; ELECTRIC RESISTANCE; ION IMPLANTATION; RAPID THERMAL ANNEALING;

EID: 0033725608     PISSN: 07431562     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: None     Document Type: Conference Paper
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.