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Volumn 10, Issue 10, 2000, Pages 155-142

Application de la methodologie des plans d'experiences de Taguchi a l'analyse des relations entre parametres d'elaboration, microstructure et contraintes residuelles dans des depots electrolytiques de platine

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CURRENT DENSITY; ELECTRODEPOSITION; ELECTROLYTES; PH EFFECTS; SUBSTRATES; SURFACE STRUCTURE; X RAY DIFFRACTION ANALYSIS;

EID: 0033671690     PISSN: 11554339     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: 10.1051/jp4:20001017     Document Type: Article
Times cited : (4)

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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.