Chalcogen-rich lanthanide clusters from lanthanide halide starting materials: A new approach to the low-temperature synthesis of LnS(x) solids from molecular precursors [19]

Journal of the American Chemical Society

Volumn 121, Issue 43, 1999, Pages 10247-10248

  Melman, Jonathan H ^a   Fitzgerald, Mark ^a   Freedman, D ^a   Emge, T J ^a   Brennan, John G ^a  

^a RUTGERS UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHALCOGEN; HALIDE; LANTHANIDE;

CHEMICAL BOND; CHEMICAL REACTION; CHEMICAL STRUCTURE; CONTROLLED STUDY; LETTER; SYNTHESIS;

EID: 0033520698     PISSN: 00027863     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/ja991860m     Document Type: Letter

References (39)

1. (a) Berg, D.; Burns, C.; Andersen, R. A.; Zalkin, A. Organometallics 1989, 8, 1865.
2. (b) Evans, W.; Rabe, G.; Ziller, J.; Doedens, R. Inorg. Chem. 1994, 33, 2719.
3. (c) Zalkin, A.; Berg, D. Acta Crystallogr. 1988, C44, 1488.
4. Evans, W.; Rabe, G.; Ziller, J. Angew. Chem., Int. Ed. Engl. 1994, 33, 2110.
5. Cary, D. R.; Ball, G. E.; Arnold, J. J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 3492.
6. Freedman, D.; Emge, T. J.; Brennan, J. G. J. Am. Chem. Soc. 1997, 119, 11112.
7. Freedman, D.; Melman, J.; Emge, T.; Brennan, J. G. Inorg. Chem. 1998, 37, 4162.
8. Melman, J.; Emge, T. J.; Brennan, J. G. Inorg. Chem. 1999, 38, 2117.
9. Melman, J. H.; Emge, T. J.; Brennan, J. G. Chem. Commun. 1997, 2269.
10. Freedman, D.; Emge, T. J.; Brennan, J. G. Inorg. Chem. 1999, 38, 4400.
11. Freedman, D.; Sayan, S.; Emge, T.; Croft, M.; Brennan, J. G., manuscript submitted.
12. 11
13. 2) = 0.213. Complete crystallographic details are given in the Supporting Information.
14. 2 (0.114 g, 0.45 mmol), THF (30 mL) and S (0.129 g, 4.03 mmol) gives 1 (0.30 g, 38%).
15. (a) Young, C. G.; Stiefel, E. I.; Kocaba, T. O. Inorg. Chem. 1994, 33, 6252
16. (b) Hidai, M.; Nishio, M.; Matsuzaka, H. Angew. Chem. 1996, 35, 872.
17. (c) Sokolov, M. N.; Hernandez-Molina, R.; Sykes, A. G. J. Chem. Soc., Dalton Trans. 1997, 2059.
18. (d) Ryu, S.; Whang, D.; Tatsumi, K. Inorg. Chem. 1997, 36, 4607.
19. (e) Heck, J.; Gal, A. W.; van den Berg, W. Inorg. Chem. 1997, 36, 1821.
20. (a) Lee, J.; Brewer, M.; Berardini, M.; Brennan, J. Inorg. Chem. 1995, 34, 3215.
21. (b) Mashima, K.; Nakayama, Y.; Fukumoto, H.; Kanehisa, N.; Kai, Y.; Nakamura, A. J. Chem. Soc., Chem. Commun. 1994, 2523.
22. 3.
23. (a) Lee, J.; Freedman, D.; Melman, J.; Brewer, M.; Sun, L.; Emge, T. J.; Long, F. H.; Brennan, J. G. Inorg. Chem. 1998, 37, 2512.
24. (b) Berardini, M.; Lee, J.; Freedman, D.; Lee, J.; Emge, T. J.; Brennan, J. G. Inorg. Chem. 1997, 36, 5772.
25. Sutorik, A. C.; Katzanadis, M. G. J. Am. Chem. Soc. 1991, 113, 7754.
26. Perry, D. L.; Zalkin, A.; Ruben, H.; Templeton, D. L. Inorg. Chem. 1982, 21, 237.
27. (a) Berardini, M.; Brennan, J. G. Inorg. Chem. 1995, 34, 6179.
28. (b) Brewer, M.; Lee, J.; Brennan, J. G. Inorg. Chem. 1995, 34, 5919.
29. (c) Strzelecki, A. R.; Timinski, P. A.; Helsel, B. A.; Bianconi, P. A. J. Am. Chem. Soc. 1992, 114, 3159.
30. (d) Strzelecki, A. R.; Likar, C. L.; Helsel, B. A.; Utz, T.; Lin, M. C.; Bianconi, P. A. Inorg. Chem. 1994, 33, 5188.
31. (e) Kuzmina, N. P.; Ivanov, R. A.; Paramonov, S. E.; Martynenko, L. I. Electrochem. Soc. 1997, 880.
32. For recent examples: (a) Brady, D. J.; Schweizer, T.; Wang, J.; Hewak, D. W. J. Non-Cryst. Solids 1998, 242, 92. (b) Schweizer, T.; Mobert, P.; Hector, J. R.; Hewak, D. W.; Brocklesby, W. S.; Payne, D. N.; Huber, G. Phys. Rev. Lett. 1998, 80, 1537. (c) Schweizer, T.; Samson, B. N.; Hector, J. R.; Brocklesby, W. S.; Hewak, D. W.; Payne, D. N. J. Opt. Soc. Am. B 1999, 16, 308. (d) Yun, S. J.; Dey, S.; Nam, K. J. Korean Phys. Soc. 1998, 33, S-454. (e) Krasteva, V.; Machewirth, D.; Sigel, G. H. J. Non-Cryst. Solids 1997, 213-4, 304. (f) Saanila, V.; Ihanus, J.; Ritala, M.; Leskela, M. Chem. Vapor Deposition 1998, 4, 227. (g) Heikkinen, H.; Johansson, L.-S.; Nykanen,; E. Niinisto, L. Appl. Surf. Sci. 1998, 133, 205.
33. For recent examples: (a) Brady, D. J.; Schweizer, T.; Wang, J.; Hewak, D. W. J. Non-Cryst. Solids 1998, 242, 92. (b) Schweizer, T.; Mobert, P.; Hector, J. R.; Hewak, D. W.; Brocklesby, W. S.; Payne, D. N.; Huber, G. Phys. Rev. Lett. 1998, 80, 1537. (c) Schweizer, T.; Samson, B. N.; Hector, J. R.; Brocklesby, W. S.; Hewak, D. W.; Payne, D. N. J. Opt. Soc. Am. B 1999, 16, 308. (d) Yun, S. J.; Dey, S.; Nam, K. J. Korean Phys. Soc. 1998, 33, S-454. (e) Krasteva, V.; Machewirth, D.; Sigel, G. H. J. Non-Cryst. Solids 1997, 213-4, 304. (f) Saanila, V.; Ihanus, J.; Ritala, M.; Leskela, M. Chem. Vapor Deposition 1998, 4, 227. (g) Heikkinen, H.; Johansson, L.-S.; Nykanen,; E. Niinisto, L. Appl. Surf. Sci. 1998, 133, 205.
34. For recent examples: (a) Brady, D. J.; Schweizer, T.; Wang, J.; Hewak, D. W. J. Non-Cryst. Solids 1998, 242, 92. (b) Schweizer, T.; Mobert, P.; Hector, J. R.; Hewak, D. W.; Brocklesby, W. S.; Payne, D. N.; Huber, G. Phys. Rev. Lett. 1998, 80, 1537. (c) Schweizer, T.; Samson, B. N.; Hector, J. R.; Brocklesby, W. S.; Hewak, D. W.; Payne, D. N. J. Opt. Soc. Am. B 1999, 16, 308. (d) Yun, S. J.; Dey, S.; Nam, K. J. Korean Phys. Soc. 1998, 33, S-454. (e) Krasteva, V.; Machewirth, D.; Sigel, G. H. J. Non-Cryst. Solids 1997, 213-4, 304. (f) Saanila, V.; Ihanus, J.; Ritala, M.; Leskela, M. Chem. Vapor Deposition 1998, 4, 227. (g) Heikkinen, H.; Johansson, L.-S.; Nykanen,; E. Niinisto, L. Appl. Surf. Sci. 1998, 133, 205.
35. For recent examples: (a) Brady, D. J.; Schweizer, T.; Wang, J.; Hewak, D. W. J. Non-Cryst. Solids 1998, 242, 92. (b) Schweizer, T.; Mobert, P.; Hector, J. R.; Hewak, D. W.; Brocklesby, W. S.; Payne, D. N.; Huber, G. Phys. Rev. Lett. 1998, 80, 1537. (c) Schweizer, T.; Samson, B. N.; Hector, J. R.; Brocklesby, W. S.; Hewak, D. W.; Payne, D. N. J. Opt. Soc. Am. B 1999, 16, 308. (d) Yun, S. J.; Dey, S.; Nam, K. J. Korean Phys. Soc. 1998, 33, S-454. (e) Krasteva, V.; Machewirth, D.; Sigel, G. H. J. Non-Cryst. Solids 1997, 213-4, 304. (f) Saanila, V.; Ihanus, J.; Ritala, M.; Leskela, M. Chem. Vapor Deposition 1998, 4, 227. (g) Heikkinen, H.; Johansson, L.-S.; Nykanen,; E. Niinisto, L. Appl. Surf. Sci. 1998, 133, 205.
36. For recent examples: (a) Brady, D. J.; Schweizer, T.; Wang, J.; Hewak, D. W. J. Non-Cryst. Solids 1998, 242, 92. (b) Schweizer, T.; Mobert, P.; Hector, J. R.; Hewak, D. W.; Brocklesby, W. S.; Payne, D. N.; Huber, G. Phys. Rev. Lett. 1998, 80, 1537. (c) Schweizer, T.; Samson, B. N.; Hector, J. R.; Brocklesby, W. S.; Hewak, D. W.; Payne, D. N. J. Opt. Soc. Am. B 1999, 16, 308. (d) Yun, S. J.; Dey, S.; Nam, K. J. Korean Phys. Soc. 1998, 33, S-454. (e) Krasteva, V.; Machewirth, D.; Sigel, G. H. J. Non-Cryst. Solids 1997, 213-4, 304. (f) Saanila, V.; Ihanus, J.; Ritala, M.; Leskela, M. Chem. Vapor Deposition 1998, 4, 227. (g) Heikkinen, H.; Johansson, L.-S.; Nykanen,; E. Niinisto, L. Appl. Surf. Sci. 1998, 133, 205.
37. For recent examples: (a) Brady, D. J.; Schweizer, T.; Wang, J.; Hewak, D. W. J. Non-Cryst. Solids 1998, 242, 92. (b) Schweizer, T.; Mobert, P.; Hector, J. R.; Hewak, D. W.; Brocklesby, W. S.; Payne, D. N.; Huber, G. Phys. Rev. Lett. 1998, 80, 1537. (c) Schweizer, T.; Samson, B. N.; Hector, J. R.; Brocklesby, W. S.; Hewak, D. W.; Payne, D. N. J. Opt. Soc. Am. B 1999, 16, 308. (d) Yun, S. J.; Dey, S.; Nam, K. J. Korean Phys. Soc. 1998, 33, S-454. (e) Krasteva, V.; Machewirth, D.; Sigel, G. H. J. Non-Cryst. Solids 1997, 213-4, 304. (f) Saanila, V.; Ihanus, J.; Ritala, M.; Leskela, M. Chem. Vapor Deposition 1998, 4, 227. (g) Heikkinen, H.; Johansson, L.-S.; Nykanen,; E. Niinisto, L. Appl. Surf. Sci. 1998, 133, 205.
38. For recent examples: (a) Brady, D. J.; Schweizer, T.; Wang, J.; Hewak, D. W. J. Non-Cryst. Solids 1998, 242, 92. (b) Schweizer, T.; Mobert, P.; Hector, J. R.; Hewak, D. W.; Brocklesby, W. S.; Payne, D. N.; Huber, G. Phys. Rev. Lett. 1998, 80, 1537. (c) Schweizer, T.; Samson, B. N.; Hector, J. R.; Brocklesby, W. S.; Hewak, D. W.; Payne, D. N. J. Opt. Soc. Am. B 1999, 16, 308. (d) Yun, S. J.; Dey, S.; Nam, K. J. Korean Phys. Soc. 1998, 33, S-454. (e) Krasteva, V.; Machewirth, D.; Sigel, G. H. J. Non-Cryst. Solids 1997, 213-4, 304. (f) Saanila, V.; Ihanus, J.; Ritala, M.; Leskela, M. Chem. Vapor Deposition 1998, 4, 227. (g) Heikkinen, H.; Johansson, L.-S.; Nykanen,; E. Niinisto, L. Appl. Surf. Sci. 1998, 133, 205.
39. Flahaut, J.; Domange, L.; Guittard, M.; Loners, J. Bull. Soc. Chim. Fr. 1961, 102.