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Volumn 4, Issue , 1999, Pages 4192-4197

Temperature control of diffusion/CVD furnaces using robust multivariable loop-shaping techniques

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CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; FURNACES; LINEAR CONTROL SYSTEMS; MATHEMATICAL MODELS; ROBUSTNESS (CONTROL SYSTEMS);

EID: 0033345419     PISSN: 01912216     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: None     Document Type: Conference Paper
Times cited : (8)

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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.