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Volumn 3873, Issue pt 1, 1999, Pages 243-254

Cost analysis of 4X and 6X 9-inch reticles for future lithography

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COST BENEFIT ANALYSIS; COSTS; LITHOGRAPHY; MASKS; MATHEMATICAL MODELS; SIZE DETERMINATION; SUBSTRATES;

EID: 0033328212     PISSN: 0277786X     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: None     Document Type: Conference Paper
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.