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Volumn 3, Issue , 1999, Pages 1621-1626

Mask-under-etch experiments of Si{110} in TMAH

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AMMONIUM COMPOUNDS; COMPOSITION; CRYSTAL MICROSTRUCTURE; ETCHING; OPTICAL MICROSCOPY; OXIDES; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; SURFACES;

EID: 0033310426     PISSN: 08407789     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: None     Document Type: Conference Paper
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.