Dendrimer-mediated adhesion between vapor-deposited Au and glass or Si wafers

Analytical Chemistry

Volumn 71, Issue 19, 1999, Pages 4403-4406

  Baker, Lane A ^a   Zamborini, Francis P ^a   Sun, Li ^a   Crooks, Richard M ^a  

^a TEXAS A AND M UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DENDRIMER; GLASS; GOLD; POLYAMIDOAMINE; SILICON; UNCLASSIFIED DRUG;

ADHESION; ARTICLE; CONTROLLED STUDY; CYCLIC POTENTIOMETRY; ELECTROCHEMISTRY; SCANNING TUNNELING MICROSCOPY; VAPOR;

EID: 0033214808     PISSN: 00032700     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/ac990495e     Document Type: Article

References (28)

1. Tomalia, D. A.; Naylor, A. M.; Goddard, W. A. Angew. Chem., Int. Ed. Engl. 1990, 29, 138-175.
2. Zeng, F.; Zimmerman, S. C. Chem. Rev. 1997, 97, 1681-1713.
3. Xu, C.; Sun, L.; Kepley, L. J.; Crooks, R. M.; Ricco, A. J. Anal. Chem. 1993, 65, 2101-2107.
4. Lee, Y. Langmuir 1999, 15, 1796-1801.
5. Holloway, P. H. Gold Bull. 1978, 12, 99-106.
6. Mitchell, I. V.; Williams, J. S.; Smith, P.; Elliman, R. G. Appl. Phys. Lett. 1984, 44, 193-195.
7. Jang, H. G.; Kim, K. H.; Han, S.; Choi, W. K.; Jung, H.-J.; Koh, S. K.; Kim, H. B. J. Vac. Sci. Technol. A 1997, 15, 2234-2237.
8. Wasserman, S. R.; Biebuyck, H.; Whitesides, G. M. J. Mater. Res. 1989, 4, 886-892.
9. Mumbauer, P. D.; Carey, D. H.; Ferguson, G. S. Chem. Mater. 1995, 7, 1303-1314.
10. Chaudhury, M. K.; Plueddemann, E. P. J. Adhes. Sci. Technol. 1987, 1, 243-246.
11. Czanderna, A. W.; King, D. E.; Spaulding, D. J. Vac. Sci. Technol. A 1991, 9, 2607-2613.
12. Newton, M. I.; McHale, G.; Hooper, P. D.; Willis, M. R.; Burt, S. D. Vacuum 1995, 46, 315-318.
13. Smith, E. L.; Alves, C. A.; Anderegg, J. W.; Porter, M. D.; Siperko, L. M. Langmuir 1992, 8, 2702-2714.
14. Tisone, T. C.; Drobek, J. J. Vac. Sci. Technol. 1971, 9, 271-275.
15. Ashwell, G. W. B.; Heckingbottom, R. J. Electrochem. Soc. 1981, 128, 649-654.
16. Adzic, R.; Horkans, J.; Cahan, B. D.; Yeager, E. J. Electrochem. Soc. 1973, 120, 1219-1220.
17. Josowicz, M.; Janata, J.; Levy, M. J. Electrochem. Soc. 1988, 135, 112-115.
18. Kim, T.; Chan, K. C.; Crooks, R. M. J. Am. Chem. Soc. 1997, 119, 189-193.
19. Goss, C. A.; Charych, D. H.; Majda, M. Anal. Chem. 1991, 63, 85-88.
20. Dunaway, D. J.; McCarley, R. L. Langmuir 1994, 10, 3598-3606.
21. Tsukruk, V. V.; Rinderspacher, F.; Bliznyuk, V. N. Langmuir 1997, 13, 2171-2176.
22. Esumi, K.; Goino, M. Langmuir 1998, 14, 4466-4470.
23. Tokuhisa, H.; Zhao, M.; Baker, L. A.; Phan, V. T.; Dermody, D. L.; Garcia, M. E.; Peez, R. F.; Crooks, R. M.; Mayer, T. M. J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 4492-4501.
24. Garcia, M. E.; Baker, L. A.; Crooks, R. M. Anal. Chem. 1998, 71, 256-258.
25. Bar, G.; Rubin, S.; Cutts, R. W.; Taylor, T. N.; Zawodzinski, T. A. Langmuir 1996, 12, 1172-1179.
26. Dishner, M. H.; Ivey, M. M.; Gorer, S.; Hemminger, J. C.; Feher, F. J. J. Vac. Sci. Technol., A 1998, 16, 3295-3300.
27. Zhao, M.; Lui, Y.; Crooks, R. M.; Bergbreiter, D. E. J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 923-930.
28. Porter, M. D.; Bright, T. B.; Allara, D. L.; Chidsey, C. E. D. J. Am. Chem. Soc. 1987, 109, 3559-3568.