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Volumn 46, Issue 5, 1999, Pages 589-594

How to use oxygen and atomic hydrogen to prepare atomically flat fcc Co(110) films

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EID: 0033137414     PISSN: 02955075     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1209/epl/i1999-00304-5     Document Type: Article
Times cited : (13)

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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.