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Volumn 3678, Issue I, 1999, Pages 306-315

Effects of polymer structure on dissolution characteristics in chemically amplified 193 nm resists

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ADHESION; COMPUTER SIMULATION; DISSOLUTION; DRY ETCHING; ELECTRIC RESISTANCE; POLYMERS;

EID: 0032686704     PISSN: 0277786X     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: 10.1117/12.350214     Document Type: Conference Paper
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References (15)
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.