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Volumn 507, Issue , 1999, Pages 897-902

Deposition, defect and weak bond formation processes in a-Si:H

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AMORPHOUS SILICON; CHEMICAL BONDS; CRYSTAL DEFECTS; DEPOSITION; HYDROGEN; THERMAL EFFECTS;

EID: 0032675578     PISSN: 02729172     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: None     Document Type: Conference Paper
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.