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Volumn 3738, Issue , 1999, Pages 337-346

Laser damage testing of SiO2 and HfO2 thin films

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ELECTRON BEAMS; EVAPORATION; EXCIMER LASERS; FUSED SILICA; HAFNIUM COMPOUNDS; LASER DAMAGE; LASER OPTICS; PHOTOACOUSTIC EFFECT; SUBSTRATES; THIN FILMS;

EID: 0032641111     PISSN: 0277786X     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: None     Document Type: Article
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.