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Volumn , Issue , 1999, Pages 181-185

Uniformity control of rate enhanced reactive AC sputtering

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ANODES; ARGON; ELECTRIC POWER SUPPLIES TO APPARATUS; GLASS; MAGNETIC FIELD EFFECTS; OXIDES; RATE CONSTANTS; THICKNESS CONTROL; THIN FILMS;

EID: 0032620914     PISSN: 07375921     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: None     Document Type: Conference Paper
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.