Radio frequency magnetron sputter deposition of CaF2 films

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 16, Issue 2, 1998, Pages 615-623

  Dudney, N J ^a  

^a OAK RIDGE NATIONAL LABORATORY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0032398555     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.581092     Document Type: Article

References (28)

1. N. S. Gluck, H. Sankur, and W. J. Gunning, J. Vac. Sci. Technol. A 7, 2983 (1989).
2. U. Kaiser, N. Kaiser, P. Weissbrodt, U. Mademann, E. Hacker, and H. Müller, Thin Solid Films 217, 7 (1992).
3. N. Maréchal, E. Quesnel, P. Juliet, and Y. Pauleau, J. Appl. Phys. 74, 5203 (1993).
4. L. J. Schowalter and R. W. Fathauer, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 54, 285 (1986).
5. C.-C. Cho, T. S. Kim, B. E. Gnade, H. Y. Liu, and Y. Nishioka, Appl. Phys. Lett. 60, 338 (1992).
6. M. Watanabe, H. Muguruma, M. Asada, and S. Arai, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 29, 1803 (1990).
7. J. M. Phillips, L. Pfeiffer, D. C. Joy, T. P. Smith III, J. M. Gibson, W. M. Augustyniak, and K. W. West, J. Electrochem. Soc. 133, 224 (1986).
8. J. G. Cook, G. H. Yousefi, S. R. Das, and D. F. Mitchell, Thin Solid Films 217, 87 (1992).
9. J. I. Goldstein et al., Scanning Electron Microscopy and X-Ray Microanalysis (Plenum, New York, 1981).
10. J. B. Bates, J. C. Wang, and Y. T. Chu, J. Non-Cryst. Solids 131-133, 1046 (1991).
11. W. D. Westwood, J. Vac. Sci. Technol. 15, 1 (1978).
12. M. H. Mendenhall and R. A. Weller, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 51, 400 (1990).
13. M. Oshima, S. Maeyama, H. Takenada, Y. Ishii, and H. Sugahara, J. Vac. Sci. Technol. A 10, 163 (1992).
14. C. L. Strecker, W. E. Moddeman, and J. T. Grant, J. Appl. Phys. 52, 6921 (1981).
15. J. J. Hanak and J. P. Pellicane, J. Vac. Sci. Technol. 13, 406 (1976).
16. J. J. Cuomo, R. J. Gambino, J. M. E. Harper, J. D. Kuptsis, and J. C. Webber, J. Vac. Sci. Technol. 15, 281 (1978).
17. J. M. E. Harper, J. J. Cuomo, R. J. Gambino, H. R. Kaufman, and R. S. Robinson, J. Vac. Sci. Technol. 15, 1597 (1978).
18. S. M. Rossnagel, J. Vac. Sci. Technol. A 7, 1025 (1989).
19. R. Bruce, S. Eicher, and W. D. Westwood, J. Vac. Sci. Technol. A 6, 1642 (1988).
20. H. Zhang, Z. Sun, S. Yang, Z. Ji, P. Wu, S. Zhang, H. Zhang, and Y. Hang, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 390 (1993).
21. G. S. Bales, R. Bruinsma, E. A. Eklund, R. P. U. Karunasiri, J. Rudnick, and A. Zangwill, Science 249, 264 (1990).
22. J. A. Thornton, J. Vac. Sci. Technol. A 4, 3059 (1986).
23. P. W. M. Jacobs and S. H. Ong, J. Phys. Colloq. 37, C7-331 (1976).
24. W. Bollmann and H. Henniger, Phys. Status Solidi A 11, 367 (1972).
25. P. G. McMullin and S. Sinharoy, J. Vac. Sci. Technol. A 6, 1367 (1988).
26. F. A. Modine, D. Lubben, and J. B. Bates, J. Appl. Phys. 74, 2658 (1993).
27. C. Weaver, Adv. Phys. 11, 83 (1962).
28. G. Rasigni, F. Varnier, J. P. Palmari, N. Mayani, M. Rasigni, and A. Llebaria, Opt. Commun. 46, 294 (1983).