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Volumn 5, Issue 3, 1998, Pages 1149-1152

Design of beamline optics for EUVL

Author keywords

Beamline design; Collimating optics; Extreme ultraviolet lithography (EUVL); Toroidal mirrors

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EID: 0032381611     PISSN: 09090495     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1107/S0909049597017536     Document Type: Article
Times cited : (22)

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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.