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Volumn 67, Issue 5, 1998, Pages 1625-1635

Dependence of Plasma Profiles on ECH Power Absorption in Heliotron-E

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Electron cyclotron heating; Helical system; Power absorption

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EID: 0032358339     PISSN: 00319015     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/JPSJ.67.1625     Document Type: Article
Times cited : (9)

References (28)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.