Growth of c-axis oriented aluminum nitride films on GaAs substrates by reactive rf magnetron sputtering

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 16, Issue 6, 1998, Pages 3335-3340

  Cheng, Chien Chuan ^a   Chen, Ying Chung ^b   Horng, Rong Chang ^a   Wang, Horng Jwo ^b   Chen, Wen Rong ^b   Lai, Erh Kun ^b  

^a Sze Hai Inst of Technol and Comm   (Taiwan)

^b NATIONAL SUN YAT SEN UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0032347889     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.581541     Document Type: Article

References (39)

1. K. Tsubouchi, K. Sugai, and N. Mikoshiba, Proceedings of IEEE Ultrasonic Symposium (IEEE, New York, 1981), p. 375.
2. K. M. Lakin, J. Liu, and K. Wang, Proceedings of IEEE Ultrasonic Symposium (IEEE, New York, 1974), p. 302.
3. K. Tsubouchi and N. Mikoshiba, IEEE Trans. Sonics Ultrason. SU-32, 634 (1985).
4. Y. Someno, M. Sasaki, and T. Hirai, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 30, 1792 (1991).
5. R. Rodriguez-Clemente, B. Aspar, N. Azema, B. Armas, C. Combescure, J. Durand, and A. Figueras, J. Cryst. Growth 133, 59 (1993).
6. D. C. Bertolet, H. Liu, and J. W. Rogers, Jr., J. Appl. Phys. 75, 5385 (1994).
7. P. Kung, A. Saxler, X. Zhang, D. Walker, T. C. Wang, I. Ferguson, and M. Razegh, Appl. Phys. Lett. 66, 2958 (1995).
8. M. Miyauchi, Y. Ishikawa, and N. Shibata, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 31, L1714 (1992).
9. K. S. Stevens, A. Ohtani, M. Kinniburgh, and R. Beresford, Appl. Phys. Lett. 65, 321 (1994).
10. J. R. Mileham, S. J. Pearton, C. R. Abernathy, J. D. Mackenzie, R. J. Shul, and S. P. Kilcoyne, Appl. Phys. Lett. 67, 1119 (1995).
11. Y. Shibata, Y. Kanno, K. Kaya, M. Kanai, and T. Kawai, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 34, L320 (1995).
12. W. T. Lin, L. C. Meng, G. J. Chen, and H. S. Liu, Appl. Phys. Lett. 66, 2066 (1995).
13. R. D. Vispute, H. Wu, and J. Narayan, Appl. Phys. Lett. 67, 1549 (1995).
14. U. Mazur and A. Cleary, J. Phys. Chem. 94, 189 (1990).
15. H. Okano, T. Tanaka, K. Shibata, and S. Nakano, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 31, 3017 (1992).
16. X. D. Wang, W. Jiang, M. G. Norton, and K. W. Hipps, Thin Solid Films 251, 121 (1994).
17. H. Okano, T. Tanaka, Y. Hirao, Y. Kobayashi, K. Shibata, and S. Nakano, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 33, 2957 (1994).
18. J. M. E. Harper, J. J. Cuomo, and H. T. G. Hentzell, J. Appl. Phys. 58, 550 (1985).
19. K. Ogata, Y. Andoh, and E. Kamijo, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 39, 178 (1989).
20. J. Yang, C. Wang, X. Yan, K. Tao, B. Liu, and Y. Fan, Appl. Phys. Lett. 62, 2790 (1993).
21. G. A. Nyberg and R. A. Buhrman, J. Vac. Sci. Technol. A 2, 301 (1984).
22. W. J. Meng, G. L. Eesley, and K. A. Svinarich, Phys. Rev. B 42, 4881 (1990).
23. J. S. Wang and K. M. Lakin, Appl. Phys. Lett. 40, 308 (1982).
24. J. A. Sell, W. J. Meng, and T. A. Perry, J. Vac. Sci. Technol. A 10, 1804 (1992).
25. E. Rille, R. Zarwasch, and H. K. Pulker, Thin Solid Films 228, 215 (1993).
26. H. M. Liaw and F. S. Hickernell, IEEE Trans. Ultrason. Ferroelectr. Freq. Control 42, 404 (1995).
27. A. J. Shuskas, T. M. Reeder, and E. L. Paradis, Appl. Phys. Lett. 24, 155 (1974).
28. T. Shiosaki, T. Yamamoto, T. Oda, and A. Kawabata, Appl. Phys. Lett. 36, 643 (1980).
29. L. G. Pearce, R. L. Gunshor, and R. F. Pierret, in Ref. 1, p. 381.
30. J. S. Wang and K. M. Lakin, Appl. Phys. Lett. 40, 308 (1982).
31. G. Este and W. D. Westwood, J. Vac. Sci. Technol. A 5, 1892 (1987).
32. H. Okano, N. Tanaka, Y. Takahashi, T. Tanaka, K. Shibata, and S. Nakano, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 31, 3446 (1992).
33. H. Okano, N. Tanaka, Y. Takahashi, T. Tanaka, K. Shibata, and S. Nakano, Appl. Phys. Lett. 64, 166 (1994).
34. S. Kumar and T. L. Tansley, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 34, 4154 (1995).
35. C. C. Cheng, Y. C. Chen, H. J. Wang, and W. R. Chen, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 35, 1880 (1996).
36. J. A. Thornton, J. Vac. Sci. Technol. A 4, 3059 (1986).
37. C. R. Aita, J. Appl. Phys. 53, 1807 (1982).
38. L. Xinjiao, X. Zechuan, H. Ziyou, C. Huazhe, S. Wuda, C. Zhongcai, Z. Feng, and W. Enguang, Thin Solid Films 139, 261 (1986).
39. F. S. Ohuchi and P. E. Russell, J. Vac. Sci. Technol. A 5, 1630 (1987).