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Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 16, Issue 4, 1998, Pages 2031-2036

Reactive ion etching for AlGaInP/GaInP laser structures

(5) Juang, Y Z a Su, Y K a Chang, S J a Huang, D F a Chang, S C a

a NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY (Taiwan)

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EID: 0032346634 PISSN: 07342101 EISSN: None Source Type: Journal
DOI: 10.1116/1.581306 Document Type: Article

Times cited : (5)

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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.