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Volumn 202, Issue 1, 1997, Pages 305-320

SiC dopant incorporation control using site-competition CVD

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EID: 0031536334     PISSN: 03701972     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/1521-3951(199707)202:1<305::AID-PSSB305>3.0.CO;2-9     Document Type: Article
Times cited : (161)

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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.