Tunable diode laser spectroscopy measurement of CH3 and C2H2 densities in a H2O/CH3OH radio frequency chemical vapor deposition diamond system

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 15, Issue 4, 1997, Pages 2247-2251

  Kim, Suchan ^a   Billesbach, D P ^a   Dillon, R ^a  

^a UNIVERSITY OF NEBRASKA LINCOLN   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0031503061     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.580541     Document Type: Article

References (31)

1. F. P. Bundy, H. T. Hall, H. M. Strong, and R. J. Wentorf, Jr., Nature (London) 176, 51 (1955).
2. P. W. Bridgman, Sci. Am. 193, 42 (1955).
3. K. Suzuki, A. Sawabe, H. Yasuda, and T. Inuzuka, Appl. Phys. Lett. 50, 728 (1987).
4. Y. Saito, S. Matsuda, and S. Nigita, J. Mater. Sci. Lett. 5, 565 (1986).
5. S. Matsumoto, Y. Sato, M. Tsutsumi, and N. Setaka, J. Mater. Sci. 17, 3106 (1982).
6. S. Matsumoto, J. Mater. Sci. Lett. 4, 600 (1985).
7. M. Buck, T.J. Chuang, J. H. Kaufman, and H. Seki, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 162, 97 (1990).
8. I. Watanabe and K. Sugata, Jpn. J. Appl. Phys. 1 27, 1397 (1988).
9. Y. Hirose and Y. Terasawa, Jpn. J. Appl. Phys. 2, Lett. 25, L519 (1986).
10. R. Manukonda, R. Dillon, and T. Furtak, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 1150 (1995).
11. R. A. Rudder, G. C. Hudson, J. B. Posthill, R. E. Thomas, R. C. Hendry, D. P. Malta, and R. J. Markunas, Appl. Phys. Lett. 60, 329 (1992).
12. R. A. Rudder, G. C. Hudson, R. C. Hendry, R. E. Thomas, J. B. Posthill, and R. J. Markunas, Surf. Coat. Technol. 54/55, 397 (1992).
13. B. V. Spitsyn, L. L. Bouilov, and B. V. Berjaguin, J. Cryst. Growth 52, 219 (1981).
14. R. Mania, L. Stobierski, and R. Pampuch, Cryst. Res. Technol. 16, 785 (1981).
15. A. D. Richards and H. H. Sawin, J. Appl. Phys. 62, 799 (1987).
16. P. Chollet, G. Guelachvilli, M. Morillon-Chapey, P. Gressier, and J. Schmitt, J. Opt. Soc. Am. B 3, 687 (1986).
17. J. Wormhoudt, J. Vac. Sci. Technol. A 8, 1722 (1990).
18. F. G. Celii, P. E. Pehrsson, H. T. Wang, and J. E. Butler, Appl. Phys. Lett. 52, 2043 (1988).
19. D. M. Bruce and D. T. Cassidy, Appl. Opt. 29, 1327 (1990).
20. P. Werle, F. Slemr, M. Gehrtz, and C. Brauchle, Appl. Phys. B 49, 99 (1989).
21. L. G. Wang, D. A. Tate, H. Riris, and T. F. Gallagher, J. Opt. Soc. Am. B 6, 871 (1989).
22. D. R. Herriot, H. Kogelnik, and R. Kompfner, Appl. Opt. 3, 523 (1964).
23. L. S. Rothman, R. R. Gamache, A. Goldman, L. R. Brown, R. A. Toth, H. M. Pickett, R. L. Poynter, J. M. Flaud, C. Camy-Peyret, A. Barbe, N. Husson, C. P. Rinsland, and M. A. H. Smith, Appl. Opt. 26, 4058 (1987).
24. C. Yamada, E. Hirota, and K. Kawaguchi, J. Chem. Phys. 75, 5256 (1981).
25. J. Wormhoudt and K. E. McCurdy, Chem. Phys. Lett. 156, 47 (1989).
26. P. K. Bachmann, D. Leers, and H. Lydtin, Diam. Relat. Mater. 1, 1 (1991).
27. J. Lede, F. Lapicque, J. Villermaux, B. Cales, A. Ounalli, J. Baumard, and A. M. Anthony, Int. J. Hydrogen Energy 7, 939 (1982).
28. Y. Matsui and M. Sahara, Jpn. J. Appl. Phys. 1 28, 1023 (1989).
29. J. Amorim, H. S. Maciel, and J. P. Sudano, J. Vac. Sci. Technol. B 9, 362 (1991).
30. L. E. Kline, W. D. Partlow, and W. E. Bies, J. Appl. Phys. 65, 70 (1989).
31. K. Tachibana, M. Nishida, H. Harima, and Y. Urano, J. Phys. D 17, 1727 (1984).