Plasma diagnostics and processings in CF4/He radio frequency discharge

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 15, Issue 4, 1997, Pages 1828-1831

  Mutsukura, N ^a   Shimada, M ^a  

^a TOKYO DENKI UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0031477267     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.580799     Document Type: Article

References (22)

1. C. R. Brundle, M. B. Robin, and H. Basch, J. Chem. Phys. 53, 2196 (1970).
2. S. Nishimura and H. Tanaka, J. IEE Jpn. 110, 172 (1990).
3. Y.-Y. Tu, T. J. Chuang, and H. F. Winters, Phys. Rev. B 23, 823 (1981).
4. J. W. Coburn, Phys. Scr. T 23, 258 (1986).
5. N. J. Iauno, K. E. Greenberg, and J. T. Verdeyen, J. Electrochem. Soc. 128, 2174 (1981).
6. K. R. Ryan and I. C. Plumb, Plasma Chem. Plasma Process. 8, 263 (1988).
7. A. Manenschijn, G. C. A. M. Janssen, E. van der Drift, and S. Radelaar, J. Appl. Phys. 65, 3226 (1989).
8. N. Mutsukura, Y. Fukasawa, Y. Machi, and T. Kubota, J. Vac. Sci. Technol. A 12, 3126 (1994).
9. W. H. Beattie, Appl. Spectrosc. 29, 334 (1975).
10. H. Yoshida, M. Ukai, H. Kawamura, N. Kouchi, and Y. Hatano, J. Chem. Phys. 97, 3289 (1992).
11. M. Chau and M. T. Bowers, Int. J. Mass Spectrom. Ion Phys. 24, 191 (1977).
12. Y. Hirosaka, H. Toyoda, and H. Sugai, Jpn. J. Appl. Phys. 32, L353 (1993).
13. V. H. Dibeler and F. L. Mohler, J. Res. Natl. Bur. Stand 40, 25 (1948).
14. M. Hayashi (private communication).
15. K. Takahashi, M. Hori, K. Maruyama, S. Kishimoto, and T. Goto, Jpn. J. Appl. Phys. 32, L694 (1993).
16. G. Turban, B. Grolleau, P. Launay, and P. Briaud, Rev. Phys. Appl. 20, 609 (1985).
17. M. Haverlag, A. Kono, D. Passchier, G. M. W. Kroesen, W. J. Goedheer, and F. J. de Hoog, J. Appl. Phys. 70, 3472 (1991).
18. J. L. Jauberteau, G. J. Meeusen, M. Haverlag, G. M. W. Kroesen, and F. J. deHoog, Appl. Phys. Lett. 55, 2597 (1989).
19. A. Kono, M. Haverlag, G. M. W. Kroesen, and F. J. deHoog, J. Appl. Phys. 70, 2939 (1991).
20. J. Ling-Fai Wang, J. L. Margrave, and J. L. Flanklin, J. Chem. Phys. 58, 5417 (1973).
21. Y. Lin and L. J. Overzet, Appl. Phys. Lett. 62, 675 (1993).
22. T. J. Sommerer and M. J. Kushner, J. Appl. Phys. 71, 1654 (1992).