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Volumn 467, Issue , 1997, Pages 795-800

VHF plasma deposition of μc-Si p-layer materials

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AMORPHOUS SILICON; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; OPTIMIZATION; PLASMA APPLICATIONS; SEMICONDUCTING SILICON; SILICON SOLAR CELLS;

EID: 0031331681     PISSN: 02729172     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: 10.1557/proc-467-795     Document Type: Conference Paper
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.