Liquid-Delivery MOCVD of La1-XSrXMnO3-δ Thin Films

Chemical Vapor Deposition

Volumn 3, Issue 1, 1997, Pages 27-30

  Dahmen, Klaus Hermann ^a   Carris, Michael W ^a  

^a FLORIDA STATE UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

FILM GROWTH; LANTHANUM COMPOUNDS; MAGNETORESISTANCE; METALLORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; OXYGEN; PRESSURE EFFECTS; STRONTIUM COMPOUNDS; THIN FILMS;

OXYGEN PARTIAL PRESSURE;

PEROVSKITE;

EID: 0031070235     PISSN: 09481907     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cvde.19970030103     Document Type: Article

References (29)

1. K.-H. Dahmen, T. Gerfin, Prog. Cryst. Growth Charact. 1994, 27, 117.
2. K. Erbil, K. Zhang, B. S. Kwak, E. P. Boyd, Proc. SPIE 1989, 1187, 104.
3. T. Hirai, H. Yamane, J. Cryst. Growth 1991, 107, 683.
4. H. Yamane, M. Hasei, H. Kurosawa, T. Hirai, Jpn. J. Appl. Phys. 1991, 30(6A), 1003.
5. H. J. Scheel, M. Berkowski, B. Chabot, J. Cryst. Growth 1991, 115, 19.
6. M. Schieber, S. C. Han, Y. Ariel, S. Chokron, T. Tsach, M. Maharizi, C. Deutscher, D. Racah, A. Raizman, S. Rotter, J. Cryst. Growth 1991, 115, 31.
7. F. Schmaderer, R. Huber, H. Oetzmann, G. Wahl, Appl. Surf. Sci. 1990, 46, 53.
8. L. M. Tonge, D. S. Richeson, T. J. Marks, J. Zhao, B. W. Wessels, H. O. Marcy, C. R. Kannewurf, Adv. Chem. Ser. 1990, 226, 351.
9. M. Leskelä, H. Mölsa, L. Niinisto, Supercond. Sci. Technol 1993, 6, 627.
10. H. J. Scheel, M. Berkowski, B. Chabot, J. Cryst. Growth 1991, 115, 19.
11. H. Murakami, T. Suga, T. Noda, Y. Shiohara, T. Tanaka, Jpn. J. Appl. Phys. 1990, 29, 2751.
12. C. Chein, C. Westgate, The Hall Effect and Its Applications, Plenum Press, New York, 1979.
13. J. Lenz, Proc. IEEE 1990, 78, 9073.
14. C. Mee, E. Daniel, Magnetic Recording Handbook, McGraw-Hill, New York 1989.
15. R. White, IEEE Trans. Magn. 1992, 28, 2482.
16. A. V. Pohm, J. S. T. Huang, J. M. Daughton, D. R. Drahn, A. Mehra, IEEE Trans. Magn. 1988, 22, 3117.
17. A. V. Pohm, C. S. Comstock, J. M. Daughton, IEEE Trans. Magn. 1989, 23, 4266.
18. R. von Helmolt, J. Wecker, K. Samwer, L. Haupt, K. Bärner, J. Appl. Phys. 1994, 76, 6925.
19. B. W. Chung, E. L. Brosha, F. H. Garzon, I. D. Raistrick, R. J. Houlton, M. E. Hawley, J. Mater. Res. 1995, 10, 2518.
20. V. S. Achutharaman, P. A. Kraus, V. A. Vas'ko, C. A. Nordman, A. M. Golman, Appl. Phys. Lett. 1995, 67, 1019.
21. S. Jin, M. McCormack, T. H. Tiefel, R. Ramesh, J. Appl. Phys. 1994, 76, 6929.
22. L. M. Tonge, D. S. Richeson, T. J. Marks, J. Zhao, J. Zhang, B. W. Wessels, H. O. Marcy, C. R. Kannewurf, Adv. Chem. Ser. 1990, 226, 351.
23. G. J. Snyder, R. Hiskes, S. DiCarolis, M. R. Beasley, T. H. Geballe, Phys. Rev. B 1996, 53, 14434.
24. Y. Q. Li, J. Zhang, S. Pombrik, S. DiMascio, W. Stevens, Y. F. Yan, N. P. Ong, J. Mater. Res. 1995, 10, 2166.
25. A. R. West, Solid State Chemistry and Its Applications, Wiley, New York 1984, p. 174.
26. R. D. Sánchez, J. Rivas, C. Vázquez-Vázquez, A. López-Quintela, M. T. Causa, M. Tovar, S. Oseroff, Appl. Phys. Lett. 1996, 68, 134.
27. S. Jin, T. H. Tiefel, M. McCormack, H. M. O'Bryan, L. H. Chen, R. Ramesh, D. Schurig, Appl. Phys. Lett. 1995, 67, 557.
28. K. J. Eisentraut, R. E. Sievers, J. Am. Chem. Soc. 1965, 87, 5254.
29. T. J. Wenzel, E. J. Williams, R. E. Sievers, in Inorganic Syntheses (Ed: S. Kirscher), McGraw-Hill, New York 1985, p. 144.