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Seimitsu Kogaku Kaishi/Journal of the Japan Society for Precision Engineering
Volumn 63, Issue 1, 1997, Pages 81-85
Line width control on laser beam writing

(1)  Onda, Hajime a  

a NONE
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Air slide; Defocus; Gaussian beam; Laser beam writing; Laser energy density; Line width; Optical lens; Patterning; Photo mask; Photo resist
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MASKS; OPTICAL INSTRUMENT LENSES; PHOTORESISTS;
EID: 0030871537     PISSN: 09120289     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.2493/jjspe.63.81     Document Type: Article
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.