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Volumn 441, Issue , 1997, Pages 69-74

Observation of film growth phenomena using micromachined structures

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CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; MICROMACHINING; SEMICONDUCTOR MATERIALS; SILICON WAFERS; TEMPERATURE CONTROL; THIN FILMS;

EID: 0030721366     PISSN: 02729172     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: None     Document Type: Conference Paper
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.