Plasmaaktiviertes gasborieren mit bortrifluorid

HTM - Haerterei-Technische Mitteilungen

Volumn 52, Issue 1, 1997, Pages 39-45

  Hunger, H J ^a,b,c,d   Trute, G ^d,e   Lobig G ^b,f,g,h   Rathjen, D ^b,c,h  

^a TU BERGAKADEMIE FREIBERG   (Germany)

^b CHEMNITZ UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Germany)

^c Arbeitsgruppe Mikrosonde ^*  (Germany)

^d ESK Ceramics GmbH & Co KG   (Germany)

^e TECHNISCHE UNIVERSITÄT BERLIN   (Germany)

^f DEUTSCHE BUNDESBANK   (Germany)

^g Deutsche Bundesbank   (Germany)

^h Inst F Phys Mechanische T   (Germany)

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BORON COMPOUNDS; PLASMA APPLICATIONS;

BORON TRIFLUORIDE; PLASMA BORONIZING;

HEAT TREATMENT;

EID: 0030649458     PISSN: 0341101X     EISSN: None     Source Type: Trade Journal    
DOI: None     Document Type: Article

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