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Volumn 14, Issue 1-3 SPEC. ISS., 1996, Pages 167-172

High plasma current density processes with different vapor sources

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EID: 0030533044     PISSN: 02634368     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/0263-4368(96)83430-5     Document Type: Article
Times cited : (1)

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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.