Negative ion density in inductively coupled chlorine plasmas

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 14, Issue 4, 1996, Pages 2158-2162

  Hebner, G A ^a  

^a SANDIA NATIONAL LABORATORIES   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0030520567     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.580040     Document Type: Article

References (39)

1. J. Hopwood, Plasma Sources Sci. Technol. 1, 109 (1992).
2. P. A. Miller, G. A. Hebner, K. E. Greenberg, P. D. Pochan, and B. P. Aragon, J. Nail. Int. Standard. Technol. 100, 427 (1995).
3. J. Hopwood, C. R. Guarnieri, S. J. Whitehair, and J. J. Cuomo. J. Vac. Sci. Technol. A 11, 152 (1993).
4. J. H. Keller, J. C. Foster, and M. S. Barnes, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 2487 (1993).
5. V. I. Kolobov, D. F. Beale, L. J. Mahoney, and A. E. Wendt, Appl. Phys. Lett. 65, 537 (1994).
6. L. J. Mahoney, A. E. Wendt, E. Barrios, C. J. Richards, and J. L. Shohet, J. Appl. Phys. 76, 2041 (1994).
7. U. Kortshagen, I. Pukropski, and L. D. Tsendin, Phys. Rev. E 51, 6063 (1995).
8. J. Hopwood, C. R. Guarnieri, S. J. Whitehair, and J. J. Cuomo, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 147 (1993).
9. J. A. Meyer and A. E. Wendt, J. Appl. Phys. 78, 90 (1995).
10. R. B. Piejak, V. A. Godyak, and B. M. Alexandrovich, Plasma Sources Sci. Technol. 1, 179 (1992).
11. V. A. Godyak, R. B. Piejak, and B. M. Alexandrovich, Plasma Sources Sci. Technol. 3, 169 (1994).
12. U. Kortshagen and M. Zethoff, Plasma Sources Sci. Technol. 4, 541 (1995).
13. J. W. Woodworth, M. E. Riley, D. C. Meister, B. P. Aragon, M. S. Le, and H. H. Sawin, J. Appl. Phys. (unpublished).
14. D. F. Beale, A. E. Wendt, and L. J. Mahoney, J. Vac. Sci. Technol. A 12, 2775 (1994).
15. J. Hopwood, Appl. Phys. Lett. 62, 940 (1993).
16. G. A. Hebner, J. Appl. Phys. (unpublished).
17. J. A. O'Neill, M. S. Barnes, and J. H. Keller, J. Appl. Phys. 73, 1621 (1993).
18. M. S. Barnes, J. C. Forster, and J. H. Keller, Appl. Phys. Lett. 62, 2622 (1993).
19. M. M. Turner, Phys. Rev. Lett. 71, 1844 (1993).
20. R. A. Stewart, P. Vitello, and D. B. Graves, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 478 (1994).
21. R. J. Hoekstra and M. J. Kushner, J. Appl. Phys. March, 1996.
22. R. A. Stewart, P. Vitello, D. B. Graves, E. F. Jaeger, and L. A. Berry, Plasma Sources Sci. Technol. 4, 36 (1995).
23. V. Vahedi, M. A. Lieberman, G. DiPeso, T. D. Rognilien, and D. Hewett, J. Appl. Phys. 78, 1 (1995).
24. R. S. Wise, D. P. Lymberopoulos, and D. J. Economou, Appl. Phys. Lett. 68, 2499 (1996).
25. J. Johannes, T. Bartel, G. A. Hebner, R. Wise, and D. J. Economou, American Vacuum Society Fall Meeting, Minneapolis MN, 1995 (unpublished).
26. 26E. Meeks, A. Ting, J. W. Shon, and C. Moen, in Ref. 25.
27. R. M. Forrister and H. M. Anderson, 48th Gaseous Electronics Conference, Berkeley CA, 9-13 October 1995 (unpublished), paper EA-8.
28. M. V. Kurepa and D. S. Belic, J. Phys. B 11, 3719 (1978).
29. G. L. Rogoff, J. M. Kramer, and R. B. Piejak, IEEE Trans. Plasma Sci. PS-14, 103 (1986).
30. K. E. Greenberg, G. A. Hebner, and J. T. Verdeyen, Appl. Phys. Lett. 44, 299 (1984).
31. R. A. Gottscho and C. E. Gaebe, IEEE Trans. Plasma Sci. PS-14, 92 (1986).
32. J. Kramer, J. Appl. Phys. 60, 3072 (1986).
33. G. S. Selwyn, L. D. Baston, and H. H. Sawin, Appl. Phys. Lett. 51, 898 (1987).
34. T. Ahn, K. Nakamura, and H. Sugai, in Ref. 25, paper PS1-TuA2.
35. M. Bacal, G. W. Hamilton, A. M. Bruneteau, H. J. Doucet, and J. Taillet, J. Phys. 40, C7-791 (1979).
36. M. Pealat, J.-P. E. Taran, M. Bacal, and F. Hillion, J. Chem. Phys. 82, 4943 (1985).
37. P. J. Hargis Jr. et al. Rev. Sci. Instrum. 65, 140 (1994).
38. K. E. Greenberg and G. A. Hebner, J. Appl. Phys. 73, 8126 (1993).
39. A. Mandl. Phys. Rev. A 14, 345 (1976).