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Volumn , Issue , 1996, Pages 436-439

Ibis 1000 SIMOX production implanter

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ION BEAMS; ION IMPLANTATION; ION SOURCES; OXYGEN; SERVOMECHANISMS; SILICON ON INSULATOR TECHNOLOGY;

EID: 0030361788     PISSN: None     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: None     Document Type: Conference Paper
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.