(Ba,Sr)TiO3 capacitor technology for Gbit-Scale DRAMs

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 29, Issue SUPPL. 3, 1996, Pages

  Mikami, N ^a   Kawahara, T ^a   Horikawa, T ^a   Yamamuka, M ^a   Makita, T ^a   Kuroiwa, T ^a   Yuuki, A ^a   Shibano, T ^a   Oomori, T ^a   Ono, K ^a   Satoh, S ^a   Abe, H ^a  

^a MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0030299589     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Article

References (9)

1. Y. Miyasaka and S. Matsubara, Proc. 7th Int. Symp. Appl. of Ferroelectrics. 121 (1990).
2. |2] T. Horikawa, N. Mikami, T. Makita, J. Tanimura, M. Kataoka, K. Sato, and M. Nunoshita, Jpn. J. Appl. Phys. 32(9B), 4126 (1993).
3. T. Eimori, Y. Ohno, H. Kimura, J. Matsufusa, S. Kishimura, A. Yoshida, H. Sumitani, T. Maruyama, Y. Hayashide, K. Moriizumi, T. Katayama, M. Asakura, T. Horikawa, T. Shibano, H. Itoh, K. Sato, K. Namba, T. Nishimura, S. Satoh, and H. Miyoshi, IEDM Tech. Digest, 631 (1993).
4. T. Horikawa, N. Mikami, H. Itoh, Y. Ohno, T. Makita, and K. Sato, IEICE Trans, on Electronics E77-C3, 385 (1994).
5. Y, Ohno, T. Horikawa, H. Shinkawata, K. Kashihara, T. Kuroiwa, T. Okudaira, Y. Hashizume, K. Fukumoto, T. Eimori, T. Shibano, K. Arimoto, H. Ito, T. Nishimura, and H. Miyoshi, Symp. VLSI Tech. Digest. 149 (1994).
6. N. Mikami, T. Horikawa, T. Makita, K. Sato, T. Kuroiwa, T. Honda, and H. Watarai, Ceramic transactions. 43, 67 (1994).
7. T. Kuroiwa, Y. Tsunemine, T. Horikawa, T. Makita, J. Tanimura, N. Mikami, and K. Sato, Jpn. J. Appl. Phys. 33(9B), 5184 (1994).
8. T. Horikawa, T. Makita, T. Kuroiwa, N. Mikami, Jpn. J. Appl. Phys. 34(9B), 5478 (1995).
9. A. Yuuki. M. Yamamuka, T. Makita, T. Horikawa, T. Shibano, N. Hirano, H. Maeda, N. Mikami, K. Ono, H. Ogata, and H. Abe, IEDM Tech. Digest, 1062 (1995).