Sequential deposition of NbN/MgO film on Si(100) using pulsed KrF excimer laser deposition method with different ambiences

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers

Volumn 35, Issue 7, 1996, Pages 4021-4026

  Hiroshima, Yasushi ^b   Ishiguro, Takashi ^a   Kobayashi, Takashi ^a  

^a NAGAOKA UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Japan)

^b Appl Laser Eng Research Institute   (Japan)

Author keywords

KrF excimer laser; Laser ablation; MgO thin film; NbN thin film; PLD; Pulsed laser deposition; Sequential deposition

Indexed keywords

DEPOSITION; EXCIMER LASERS; EXPERIMENTS; LASER ABLATION; NITROGEN; THIN FILMS;

DIFFERENT AMBIENCES; PULSED LASER DEPOSITION; SEQUENTIAL DEPOSITION;

PULSED LASER APPLICATIONS;

EID: 0030195393     PISSN: 00214922     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/jjap.35.4021     Document Type: Article

References (35)

1. D. H. Shin, J. Silcox, S. E. Russek, D. K. Lathrop, B. Moeckly and R. A. Buhrman: Appl. Phys. Lett. 57 (1990) 508.
2. C. M. Chang, J. J. Chu and P. T. Wu: Physica C 185-189 (1991) 1991.
3. M. Kanai, T. Kawai, S. Kawai and H. Tabata: Appl. Phys. Lett. 54 (1989) 1802.
4. H. Tabata, T. Kawai, M. Kanai, O. Murata and S. Kawai: Jpn. J. Appl. Phys. 28 (1989) L823.
5. H. Tabata, T. Kawai, S. Kawai, O. Murata, J. Fujioka and S. Minakata: Appl. Phys. Lett. 59 (1991) 2354.
6. J. S. Horwitz, K. S. Grabowski, D. B. Chrisey and R. E. Leuchtner: Appl. Phys. Lett. 59 (1991) 1565.
7. H. Buhay, S. Sinharoy, W. H. Kasner, M. H. Francombe, D. R. Lampe and E. Stepke: Appl. Phys. Lett. 58 (1991) 1470.
8. A. Inam, M. S. Hegde, X. D. Wu, T. Venkatesan, P. England, P. F. Miceli, E. W. Chase, C. C. Chang, J. M. Tarascon and J. B. Wachtman: Appl. Phys. Lett. 53 (1988) 908.
9. H. Tabata, O. Murata, T. Kawai, S. Kawai and M. Okuyama: Jpn. J. Appl. Phys. 31 (1992) 162.
10. S. G. Ghonge, E. Goo and R. Ramesh: Appl. Phys. Lett. 62 (1993) 1742.
11. T. Ishiguro, Y. Hiroshima and T. Inoue: submitted to Jpn. J. Appl. Phys.
12. R. E. Treece, J. S. Horwitz, S. B. Qadri, E. F. Skelton, E. P. Donovan and D. B. Chrisey: J. Solid State Chem. 117 (1995) 294.
13. R. E. Treece, J. S. Horwitz, J. H. Claassen and D. B. Chrisey: Appl. Phys. Lett. 65 (1994) 2860.
14. G. L. Doll, J. A. Sell, C. A. Taylor and R. Clarke: Phys. Rev. 43 (1991) 6816.
15. T. A. Friedman, K. F. McCarty, E. J. Klaus, D. Boehme, W. M. Clift, H. A. Johnsen, M. J. Mills and D. K. Ottesen: Appl. Phys. Lett. 61 (1992) 2406.
16. C. Niu, Y. Z. Lu and C. M. Lieber: Science 261 (1993) 334.
17. I. Hotovy and J. Huran: Phys. Status Solid A 137 (1993) K25.
18. J. R. Gavaler, A. I. Braginski, M. A. Janocko and J. Talvacchio: Physica B 135 (1985) 148.
19. M. Tonouchi, Y. Sakaguti and T. Kobayashi: J. Appl. Phys. 62 (1987) 961.
20. T. Ishiguro, K. Matsushima and K. Hamasaki: J. Appl. Phys. 73 (1993) 1151.
21. Y. M. Shy, L. E. Toth and R. Somasundaram: J. Appl. Phys. 44 (1973) 5539.
22. P. Villars and L. D. Calvert: Pearson's Handbook of Crystallographic Data for Intermetallic Phases, (American Society for Metals).
23. E. Riet, C. J. C. M. Nillesen and J. Dieleman: J. Appl. Phys. 74 (1993) 2008.
24. E. Riet, U. K. P. Biermann and J. Dieleman: Thin Solid Films 241 (1994) 134.
25. G. Brauer and J. Jander: Z. Anorg. Allg. Chem. 270 (1952) 160.
26. A. Fontbonne and J. C. Gilles: Rev. Hautes Temp. Refract. 6 (1969) 181.
27. G. Oya and Y. Onodera: J. Appl. Phys. 45 (1974) 1389.
28. L. Chen: Pulsed Laser Deposition of Thin Films, eds. D. B. Chrisey and G. K. Hubler (John Wiley & Sons, New York, 1994) p. 167.
29. K. L. Saenger: Pulsed Laser Deposition of Thin Films, eds. D. B. Chrisey and G. K. Hubler (John Wiley & Sons, New York, 1994) p. 199.
30. M. Iwabuchi, K. Kinoshita, H. Ishibashi and T. Kobayashi: Jpn. J. Appl. Phys. 33 (1994) L610.
31. K. Kinoshita, H. Ishibashi and T. Kobayashi: Jpn. J. Appl. Phys. 33 (1994) L417.
32. K. L. Saenger: Processing of Advanced Materials, eds. J. A. McGeough and M. Datta (Chapman & Hall, London, 1993) p. 1.
33. D. L. Medlin, T. A. Friedmann, P. B. Mirkarimi, P. Rez, M. J. Mills and K. F. McCarty: J. Appl. Phys. 76 (1994) 295.
34. T. Wada and N. Yamashita: J. Vac. Sci. Technol. A 10 (1992) 515.
35. R. W. Pryor, Z. L. Wu, K. R. Padmanabhan, S. Villanueva and R. L. Thomas: Thin Solid Films 253 (1994) 243.