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Volumn 5, Issue 1, 1996, Pages 54-60

Sheath dynamics in plasma immersion ion implantation

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CARRIER CONCENTRATION; ELECTRIC DISCHARGES; MATHEMATICAL MODELS; PLASMA PROBES; PLASMA SHEATHS; SUPERSONIC FLOW;

EID: 0030073659     PISSN: 09630252     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1088/0963-0252/5/1/007     Document Type: Article
Times cited : (38)

References (23)
  • 23
    • 0041450406 scopus 로고
    • Leipzig: VEB Deutscher Verlag für Grundstoffindustrie
    • Industrielle Vakuumtechnik 1980 Leipzig: VEB Deutscher Verlag für Grundstoffindustrie
    • (1980) Industrielle Vakuumtechnik


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.