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Volumn 2724, Issue , 1996, Pages 692-699

Highly absorbing ARC for DUV lithography

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ANTIREFLECTION COATINGS; CROSSLINKING; ETCHING; PHOTORESISTS; THICKNESS MEASUREMENT; THIN FILMS;

EID: 0029774844     PISSN: None     EISSN: None     Source Type: None    
DOI: 10.1117/12.241867     Document Type: Conference Paper
Times cited : (12)

References (9)
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.