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Volumn , Issue , 1995, Pages 309-316

Deposition processes utilizing a new filtered cathodic arc source

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AMORPHOUS FILMS; CARBON; CATHODES; HARDNESS; ION BOMBARDMENT; MAGNETIC FIELD EFFECTS; PLASMAS; STRESSES; VAPORIZATION;

EID: 0029430991     PISSN: 07375921     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: None     Document Type: Conference Paper
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References (11)
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.