Scanning Probe Lithography. 2. Selective Chemical Vapor Deposition of Copper into Scanning Tunneling Microscope-Defined Patterns

Langmuir

Volumn 10, Issue 3, 1994, Pages 615-618

  Schoer, Jonathan K ^a   Ross, Claudia B ^a   Crooks, Richard M ^a   Corbitt, Thomas S ^b   Hampden Smith, Mark J ^b  

^a TEXAS A AND M UNIVERSITY   (United States)

^b UNIVERSITY OF NEW MEXICO   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

OCTADECYL MERCAPTAN; PATTERNS; SCANNING TUNNELING MICROSCOPY; SELF ASSEMBLED MONOLAYERS;

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; COPPER; LITHOGRAPHY; METALLIZING; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY;

THIN FILMS;

EID: 0028404590     PISSN: 07437463     EISSN: 15205827     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la00015a002     Document Type: Article

References (45)

1. Ross, C. B.; Sun, L.; Crooks, R. M. Langmuir 1993, 9, 632
2. Tiberio, R. C.; Craighead, H. G.; Lercel, M.; Lau, T.; Sheen, C. W.; Allara, D. L. Appl. Phys. Lett. 1993, 62, 476
3. Nuzzo, R. G.; Allara, D. L. J. Am. Chem. Soc. 1983,105, 4481
4. Bain, C. D.; Troughton, E. B.; Tao, Y.-T.; Evall, J.; Whitesides, G. M.; Nuzzo, R. G. J. Am. Chem. Soc. 1989, 111, 321
5. Dubois, L. H.; Nuzzo, R. G. Annu. Rev. Phys. Chem. 1992,43,437
6. Shin, H. K.; Chi, K.-M.; Hampden-Smith, M. J.; Kodas, T. T.; Paffett, M. F.; Farr, J. D. Chem. Mater. 1992, 4, 788
7. Shin, H. K.; Chi, K.-M.; Hampden-Smith, M. J.; Kodas, T. T.; Paffett, M. F.; Farr, J. D. Angew. Chem., Adv. Mater. 1991, 3, 246
8. Jain, A.; Chi, K.-M.; Hampden-Smith, M. J.; Kodas, T. T. J. Electrochem. Soc. 1993, 140, 1434
9. Jain, A.; Chi, K.-M.; Hampden-Smith, M. J.; Kodas, T. T.; Paffett, M. F. Farr, J. D. Chem. Mater. 1991, 3, 995
10. Chi, K. M.; Hampden-Smith, M. J.; Farr, J. D.; Kodas, T. T.; Paffett, M. F. J. Mater. Res. 1992, 7, 261
11. Baum, T. H.; Larson, C. E. Chem. Mater. 1992, 4, 365
12. Norman, J. A. T.; Muratore, B. A.; Dyer, P. N.; Roberts, D. A.; Hochberg, A. K. J. Phys. (Paris) 1991, IV, C2-271
13. Reynolds, S. K.; Smart, C. J.; Baran, E. F.; Baum, T. H.; Larson, C. E.; Brock, P. J. Appl. Phys. Lett. 1991, 59, 2332
14. Randall, J. N.; Reed, M. A.; Moore, T. M.; Matyi, R. J.; Lee, J. W. J. Vac. Sci. Technol., B 1988, 6, 302
15. Umbach, C. P.; Broers, A. N.; Willson, C. G.; Koch, R.; Laibowitz, R. B. J. Vac. Sci. Technol., B 1988, 6, 319
16. Yoshimura, T.; Nakayama, Y.; Okazaki, S. J. Vac. Sci. Technol., B 1992,10, 2615
17. Penner, R. M.; Heben, M. J.; Lewis, N. S.; Quate, C. F. Appl. Phys. Lett. 1991, 58,1389
18. Schneir, J.; Hansma, P. K. Langmuir 1987, 3,1025
19. Li, W.; Virtanen, J. A.; Penner, R. M. Appl. Phys. Lett. 1992,60, 1181
20. Nagahara, L. A.; Thundat, T.; Lindsay, S. M. Appl. Phys. Lett. 1990, 57, 270
21. Craston, D. H.; Lin, C. W.; Bard, A. J. J. Electrochem. Soc. 1988, 135, 785
22. Silver, R. M.; Ehrichs, E. E.; De Lozanne, A. L. Appl. Phys. Lett. 1987, 51, 247
23. Ehrichs, E. E.; Smith, W. F.; De Lozanne, A. L. Ultramicroscopy 1992, 42-44, 1438
24. Kim, Y.-T.; Bard, A. J. Langmuir 1992, 8, 1096
25. Staufer, U.; Weisendanger, R.; Eng, L.; Rosenthaler, L.; Hidber, H. R.; Guentherodt, H. J.; Garcia, N. Appl. Phys. Lett. 1987, 51, 244
26. Schneir, J.; Sonnenfeld, R.; Marti, O.; Hansma, P. K.; Demuth, J. E.; Hamers, R. J. J. Appl. Phys. 1988, 63, 717
27. Landman, U.; Luedtke, W. D.; Burnham, N. A.; Colton, R. J. Science 1990, 248, 454
28. Parkinson, B. J. Am. Chem. Soc. 1990, 112, 7498
29. Rabe, J. P.; Buchholz, S. Appl. Phys. Lett. 1991, 58, 702
30. Casillas, N.; Snyder, S. R.; White, H. S. J. Electrochem. Soc. 1991, 138, 641
31. Fuchs, H.; Schimmel, T.; Lux-Steiner, M.; Bucher, E. Ultramicroscopy 1992, 42-44,1295
32. Roberts, C. J.; Wilkins, M. J.; Davies, M. C.; Jackson, D. E.; Tendler, S. J. B. Surf. Sci. 1992, 261, L29
33. Zeppenfeld, P.; Lutz, C. P.; Eigler, D. M. Ultramicroscopy 1992, 42-44, 128
34. Kim, Y.; Lieber, C. M. Science 1992, 257, 375
35. McCarley, R. L.; Hendricks, S. A.; Bard, A. J. J. Phys. Chem. 1992, 96, 10089
36. Kobayashi, A.; Grey, F.; Williams, R. S.; Aono, M. Science 1993, 259, 1724
37. McCord, M. A.; Pease, R. F. W. J. Phys., Colloq. 1986, C2, 485
38. Marrian, C. R. K.; Dobisz, E. A.; Dagata, J. A. J. Vac. Sci. Technol., B 1992, 10, 2877
39. Mamin, H. J.; Rugar, D. Appl. Phys. Lett. 1992, 61, 1003
40. Albrecht, T. R.; Dovek, M. M.; Lang, C. A.; Grutter, P.; Quate, C. F.; Kuan, S. W. J.; Frank, C. W.; Pease, R. F. W. J. Appl. Phys. 1988,64, 1178
41. Brumfield, J. C.; Goss, C. A.; Irene, E. A.; Murray, R. W. Langmuir 1992, 8, 2810
42. Jain, A.; Farkas, J.; Hampden-Smith, M. J.; Kodas, T. T. Appl. Phys. Lett. 1992, 62, 2662
43. Jain, A.; Jairath, R.; Hampden-Smith, M. J.; Kodas, T. T. J. Vac. Sci. Technol. B, in press
44. Nuzzo, R. G.; Dubois, L. H.; Allara, D. L. J. Am. Chem. Soc. 1990, 112, 558
45. Hsu, T.; Cowley, J. M. Ultramicroscopy 1983, 11, 125