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Volumn 34, Issue 4, 1991, Pages 107-111

In situ monitoring of etching uniformity in plasma reactors

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ETCHING - MONITORING; SPECTROSCOPIC ANALYSIS;

EID: 0026138445     PISSN: 0038111X     EISSN: None     Source Type: Trade Journal    
DOI: None     Document Type: Article
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References (9)
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.