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Volumn 1, Issue , 1988, Pages 267-272

Hydrogen plasma durability of SnO2:F films for use in a-Si solar cells

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HALL EFFECT; HYDROGEN; PLASMAS; SEMICONDUCTING SILICON--CHARGE CARRIERS;

EID: 0024186273     PISSN: 01608371     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: None     Document Type: Conference Paper
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.