메뉴 건너뛰기




Volumn 39, Issue 2, 1986, Pages 73-82

Investigations on hydrophilic and hydrophobic silicon (100) wafer surfaces by X-ray photoelectron and high-resolution electron energy loss-spectroscopy

Author keywords

68.20; 73; 82.65

Indexed keywords

CHEMICAL REACTIONS - OXIDATION; SPECTROSCOPY, ELECTRON - APPLICATIONS;

EID: 0022662543     PISSN: 07217250     EISSN: 14320630     Source Type: Journal    
DOI: 10.1007/BF00616822     Document Type: Article
Times cited : (424)

References (35)
  • 3
    • 84934666239 scopus 로고    scopus 로고
    • D.E. Aspnes, A.A. Studna: Appl. Phys. Lett. 39, 316
  • 15
    • 84934666244 scopus 로고    scopus 로고
    • J.H. Mazur, R. Gronsky, J. Washburn: Lawrence Berkeley Laboratory Report 16272 (1983)
  • 21
    • 84934666243 scopus 로고    scopus 로고
    • P.O. Hahn: Private communication
  • 22
    • 84934666242 scopus 로고    scopus 로고
    • H. Ibach: Private communication
  • 29
    • 84934666241 scopus 로고    scopus 로고
    • H. Beyer: Private communication


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.