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Volumn 18, Issue 2, 1980, Pages 164-168

EFFECT OF OXYGEN IMPLANTATION UPON SECONDARY ION YIELDS.

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SPUTTERING;

EID: 0018986247     PISSN: 00225355     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.570716     Document Type: Conference Paper
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.