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Volumn 35, Issue 2, 1975, Pages 298-305

MODELING OF X-RAY RESISTS FOR HIGH RESOLUTION LITHOGRAPHY.

(2)  Hagouel, P I a   Neureuther, A R a  

a NONE

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ETCHING; MATHEMATICAL MODELS; PRINTING PLATES; RADIATION EFFECTS; X-RAYS;

EID: 0016433336     PISSN: None     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Conference Paper
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.