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Volumn 71, Issue 4, 2000, Pages 1638-1641

A plasma-cathode electron source designed for industrial use

(2)  Osipov, Igor a   Rempe, Nikolai a  

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EID: 0013438129     PISSN: 00346748     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1150510     Document Type: Article
Times cited : (38)

References (11)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.