Oxide confining layer on an InP substrate

Journal of Applied Physics

Volumn 85, Issue 4, 1999, Pages 2428-2430

  Legay, Phillipe ^a,b   Caillet, F ^a,b   Decobert, J ^a,b   Leprince, L ^b   Le Roux, G ^b   Quillec, M ^b  

^a OPTO+   (France)

^b ORANGE LABS   (France)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0012666252     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.369561     Document Type: Article

References (9)

1. J. M. Dallesasse, N. Holonyak, A. R. Sugg, T. A. Richard, and N. El-Zein, Appl. Phys. Lett. 57, 2844 (1990).
2. D. L. Huffaker, J. Shin, and D. G. Deppe, Appl. Phys. Lett. 66, 1723 (1995).
3. G. M. Yang, M. H. MacDougal, and P. D. Dapkus, Appl. Math. Lett. 31, 886 (1995).
4. P. Legay, P. Petit, G. Le Roux, A. Kohl, I. F. L. Dias, M. Juhel, and M. Quillec, J. Appl. Phys. 81, 7600 (1997).
5. P. Legay, P. Petit, J. P. Debray, A. Kohl, G. Patriarche, G. Le Roux, M. Juhel, and M. Quillec, Proceedings of IPRM 97, Hyannis, MH., p. 586.
6. O. Blum, K. M. Geib, J. M. Hafich, J. F. Klem, and C. I. H. Ashby, Appl. Phys. Lett. 68, 3129 (1996).
7. S. J. Caracci, M. R. Krames, N. Holonyak, Jr., M. J. Ludowise, and A. Fischer-Colbrie, J. Appl. Phys. 75, 2706 (1994).
8. M. R. Krames, N. Holonyak, Jr., J. E. Epler, and H. P. Schweizer, Appl. Phys. Lett. 64, 2821 (1994).
9. H. Nickel, J. Appl. Phys. 78, 5201 (1995).