Optimized process for the fabrication of mesoscopic magnetic structures

Journal of Applied Physics

Volumn 82, Issue 1, 1997, Pages 469-473

  Adeyeye, A O ^a,b   Bland, J A C ^a   Daboo, C ^a   Hasko, D G ^a   Ahmed, H ^a  

^a UNIVERSITY OF CAMBRIDGE   (United Kingdom)

^b DATA STORAGE INSTITUTE   (Singapore)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0012662077     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.365840     Document Type: Article

References (27)

1. S. W. Yuan and H. N. Bertram, J. Appl. Phys. 73, 6235 (1994).
2. M. T. Johnson and R. H. Silsbee, Phys. Rev. Lett. 55, 1790 (1985).
3. G. A. Prinz, Phys. Today 58 (1995).
4. D. D. Awschalom and D. P. DiVincenzo, Phys. Today 43 (1995).
5. R. Ferre, L. C. Sampaio, and B. Barbara, J. Magn. Magn. Mater. 140, 249 (1995).
6. M. E. Schabes and H. N. Bertram, J. Appl. Phys. 63, 1347 (1988).
7. J.-G. Zhu and H. N. Bertram, J. Appl. Phys. 63, 3248 (1988).
8. N. Smith, J. Appl. Phys. 63, 2932 (1988).
9. T. R. Koehler, B. Yang, W. Chen, and D. R. Fredkin, J. Appl. Phys. 73, 6504 (1993).
10. J. F. Smyth, Schultz, Fredkin, D. P. Kern, S. A. Rishton, H. Schmid, and M. Cali, J. Appl. Phys. 69, 5262 (1991).
11. Y. Otani, B. Pannetier, J. P. Nozieres, and D. Givord, J. Magn. Magn. Mater. 126, 622 (1993).
12. S. Y. Chou, M. S. Wei, P. R. Krauss, and P. B. Fischer, J. Appl. Phys. 76, 6674 (1994).
13. M. S. Wei and S. Y. Chou, J. Appl. Phys. 76, 6679 (1994).
14. A. Maeda, M. Kume, T. Ogura, K. Kuroki, T. Yamada, N. Nishikawa, and Y. Harada, J. Appl. Phys. 76, 6668 (1994).
15. C. Shearwood, S. J. Blundell, M. J. Baird, J. A. C. Bland, M. Gester, H. Ahmed, and H. P. Hughes, J. Appl. Phys. 76, 5249 (1994).
16. F. Rousseaux, D. Decanini, F. Carcenac, E. Cambril, M. F. Ravet, C. Chappert, N. Bardou, B. Bartenlian, and P. Veillet, EIPB-95, (1995).
17. N. Bardou et al., J. Magn. Magn. Mater. (1995).
18. A. D. Kent, S. Von Molnar, S. Gider, and D. D. Awschalom, J. Appl. Phys. 76, 6656 (1994).
19. T. L. Koch, P. J. Corvini, and W. T. Tsang, J. Appl. Phys. 62, 3461 (1987).
20. E. Inamura, Y. Miyamoto, S. Tamura, T. Takasugi, and K. Furuya, Jpn. J. Appl. Phys. 1 28, 2193 (1989).
21. J. Khan, Thin Solid Films 206, 269 (1991).
22. J. Lee, J. Vac. Sci. Technol. 16, 164 (1979).
23. M. H. Kryder, K. Y. Ahn, N. J. Mazzeo, S. Schwarzi, and S. M. Kane, IEEE Trans. Magn. 16, 99 (1980).
24. A. O. Adeyeye, J. A. C. Bland, C. Daboo, J. Lee, U. Ebels, and H. Ahmed, J. Appl. Phys. 79, 6120 (1996).
25. A. O. Adeyeye, G. Lauhoff, J. A. C. Bland, C. Daboo, D. G. Hasko, and H. Ahmed, Appl. Phys. Lett. 70, 1046 (1997).
26. B. N. Filippov, G. A. Shmatov, and A. B. Dichenko, J. Magn. Magn. Mater. 88, 316 (1990).
27. C. H. Bajorek, C. Coker, L. T. Romankiw, and D. A. Thompson, IBM J. Res. Dev. 542 (1974).