Vergleichende untersuchungen zur anwendung von siliciumnitrid und tantalpentoxid als pH-sensitive schicht für ionensensitive feldeffekttransistoren

VDI Berichte

Volumn , Issue 1255, 1996, Pages 313-318

  Mikolajick, Th ^a   Shin, P K ^a   Ryssel, H ^a  

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EID: 0012546638     PISSN: 00835560     EISSN: None     Source Type: Book Series    
DOI: None     Document Type: Article

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