Comparison of excimer laser recrystallized prepatterned and unpatterned silicon films on SiO2

Journal of Applied Physics

Volumn 81, Issue 3, 1997, Pages 1204-1211

  Giust, G K ^a   Sigmon, T W ^a,b  

^a AZ 85281   (United States)

^b LAWRENCE LIVERMORE NATIONAL LABORATORY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0012257257     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.364142     Document Type: Review

References (18)

1. S. D. S. Malhi, H. Shichijo, S. K. Vanerjee, R. Sundaresan, M. Elahy, G. P. Pollack, W. F. Richardson, A. H. Shah, L. R. Hite, R. H. Womack, P. K. Chatterjee, and H. W. Lam, IEEE Trans. Electron Devices 32, 258 (1985).
2. T. I. Kamins, Polycrystalline Silicon for Integrated Circuit Applications (Kluwer, Norwell, MA, 1988).
3. O. S. Panwar, R. A. Moore, N. S. J. Mitchell, H. S. Gamble, and B. M. Armstrong, Appl. Surf. Sci. 36. 247 (1989).
4. K. Sera, F. Okumura, H. Uchida, S. Itoh, S. Kaneko, and K. Hotta, IEEE Trans. Electron Devices 36, 2868 (1989).
5. P. Mei, J. B. Boyce, M. Hack, R. A. Lujan, S. E. Ready, D. K. Fork, R. I. Johnson, and G. B. Anderson, J. Appl. Phys. 76, 3194 (1994).
6. I. Asai, N. Kato, M. Fuse, and T. Hamano, Jpn. J. Appl. Phys. 1 32, 474 (1993).
7. H. Zhang, N. Kusumoto, T. Inushima, and S. Yamazaki, IEEE Electron Dev. Lett. 13, 297 (1993).
8. Y. Morita and T. Noguchi, Jpn. J. Appl. Phys. 28, L309 (1989).
9. K. Shimizu, O. Sugiura, and M. Matsumura, IEEE Trans. Electron Dev. 40, 112 (1993).
10. F. Plais, P. Legagneux, C. Reita, O. Huet, F. Petinot, D. Pribat, B. Godard, M. Stehle, and E. Fogarassy, Microelectron. Eng. 28, 443 (1995).
11. T. Sameshima, Jpn. J. Appl. Phys. 1 32, L1485 (1993).
12. M. Cao, S. Talwar, K. J. Kramer, T. W. Sigmon, and K. C. Saraswat, IEEE Trans. Electron Devices 43, 561 (1994).
13. J. S. Im, H. J. Kim, and M. O. Thompson, Appl. Phys. Lett. 63, 1969 (1993).
14. G. K. Giust and T. W. Sigmon (unpublished).
15. R. Carluccio, J. Stoemenos, G. Fortunato, D. B. Meakin, and M. Bianconi, Appl. Phys. Lett. 66, 1394 (1995).
16. G. J. Davies, Solidification and Casting (Wiley, New York, 1973).
17. J. D. Verhoeven, Fundamentals of Physical Metallurgy (Wiley, New York, 1975), p. 285.
18. R. W. Heine, C. R. Loper, Jr., and P. C. Rosenthal, Principles of Metal Casting (McGraw-Hill, New York, 1967), p. 183.