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Volumn 10, Issue 1, 1997, Pages 113-118

Photoresist ashing by atmospheric pressure glow plasma

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Ashing mechanism; Atmospheric pressure glow plasma; Photoresist ashing

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EID: 0011807406     PISSN: 09149244     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.2494/photopolymer.10.113     Document Type: Article
Times cited : (12)

References (17)
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.