Noise characteristics of radio frequency sputtered amorphous silicon carbide films

Journal of Applied Physics

Volumn 84, Issue 9, 1998, Pages 5057-5059

  Choi, W K ^a   Han, L J ^a   Chua, L G ^a  

^a NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE   (Singapore)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0010271980     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.368798     Document Type: Article

References (10)

1. See, e.g., Amorphous and Crystalline Silicon Carbide, Springer Proceedings in Physics, edited by G. L. Harris, M. G. Spencer, and C. Y.-W. Yang (Springer, New York, 1992).
2. W. K. Choi, F. L. Loo, C. H. Ling, F. C. Loh, and K. L. Tan, J. Appl. Phys. 78, 7289 (1995).
3. W. K. Choi, F. L. Loo, F. C. Loh, and K. L. Tan, J. Appl. Phys. 80, 1611 (1996).
4. W. K. Choi, T. Y. Ong, L. S. Tan, F. C. Loh, and K. L. Tan, J. Appl. Phys. 83, 4968 (1998).
5. W. K. Choi, L. J. Han, and F. L. Loo, J. Appl. Phys. 81, 276 (1997).
6. A. D'Amico, G. Fortunato, and C. M. Van Vliet, Solid-State Electron. 28, 837 (1985).
7. T. Teuschler, M. Hundhausen, L. Ley, and R. Arce, Phys. Rev. B 47, 12687 (1993).
8. W. K. Choi, A. E. Owen, P. G. LeComber, and M. J. Rose, J. Appl. Phys. 68, 120 (1990).
9. H. M. Dyalsingh, G. M. Khera, and K. Kakalios, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 377, 577 (1995).
10. S. Eay, D. Das, and A. K. Barua, Sol. Energy Mater. 15, 43 (1987).