Optical properties of GaN film grown by metalorganic chemical vapor deposition

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 14, Issue 3, 1996, Pages 840-843

  Zhang, R ^a   Yang, K ^a   Qin, L H ^a   Shen, B ^a   Shi, H T ^a   Shi, Y ^a   Gu, S L ^a   Zheng, Y D ^a   Huang, Z C ^b   Chen, J C ^b  

^a NANJING UNIVERSITY   (China)

^b University of Marylandw Baltimore County   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0009787884     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.580400     Document Type: Article

References (14)

1. S. Strite and H. Morkoç, J. Vac. Sci. Technol. B 10, 1237 (1992).
2. M. A. Khan, J. N. Kuznia, A. R. Bhattarai, and D. T. Olson, Appl. Phys. Lett. 62, 1786 (1993).
3. S. Nakamura, T. Mukai, and M. Senoh, Appl. Phys. Lett. 64, 1687 (1994).
4. K. G. Fertitta, A. L. Holmes, J. G. Neff, F. J. Ciuba, and R. D. Dupuis, Appl. Phys. Lett. 65, 1823 (1994).
5. R. Singh, R. J. Molnar, M. S. Unlu, and T. D. Moustakas, Appl. Phys. Lett. 64, 336 (1994).
6. K. Yung, J. Yee, J. Too, M. Rubin, N. Newman, and J. Ross, Appl. Phys. Lett. 64, 1135(1994).
7. K. G. Fertitta, A. L. Holmes, J. G. Neff, F. J. Ciuba, and R. D. Dupuis, Appl. Phys. Lett. 65, 1823 (1994).
8. H. Amano, M. Kito, K. Hiramatsu, and I. Akasaki, Jpn. J. Appl. Phys. 28, L2112(1989).
9. R. Siingh, R. J. Molnar, M. S. Unlu, and T. D. Moustakas, Appl. Phys. Lett. 64, 336(1994).
10. W. J. Meng and T. A. Perry, J. Appl. Phys. 76, 7824(1994).
11. H. Morkoç, S. Strite, G. B. Gao, M. E. Lin, B. Sverdlov, and M. Burns, J. Appl. Phys. 76, 1363(1994).
12. A. Giordana, D. K. Gaskill, D. K. Wickenden, and A. E. Wickenden, J. Electron. Mater. 23, 509, (1994).
13. W. Shan, T. J. Schmidt, X. H. Yang, S. J. Hwang, and J. J. Song, Appl. Phys. Lett. 66, 985(1995).
14. T. Kozawa et al., J. Appl. Phys. 75, 1098(1994).